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目前常用的拋光方法有(yǒu)幾種呢?

返回列(liè)表 來源: 發布(bù)日期:2020-12-09

隨著(zhe)塑料(liào)製品日(rì)溢廣泛的應用,如日化用品和飲料包裝容器等,外(wài)觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵達到鏡(jìng)麵拋(pāo)光的程(chéng)度。而生產光(guāng)學鏡片、鐳射唱片等模具對(duì)表麵粗糙度要求極高,因而對拋光(guāng)性的要求(qiú)也極高(gāo)。

  1 機械拋光

  機械拋光是*切削、材(cái)料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸(tū)部而得到平滑麵的拋光(guāng)方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙(zhǐ)等,以手工操作為主,特殊零件(jiàn)如回轉體表麵,可使用轉台等輔助(zhù)工具,表麵質量 要求高(gāo)的可采用超精研拋的方法。

  超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊(jǐn)壓在工件(jiàn)被加工表麵上,作高速(sù)旋轉運動。利用該技術可(kě)以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中(zhōng)最高的(de)。光學鏡片模具常采用這種方法。

  2 化學拋光

  化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到(dào)平(píng)滑麵。這種方法的主要優點是(shì)不需複雜設備,可以拋光形狀複雜的工件,可以同時拋(pāo)光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。

  3 電解拋光(guāng)

  電(diàn)解拋光基本原(yuán)理與化(huà)學拋光相同,即*選擇性的溶解材(cái)料表麵微小凸出部分,使表麵光(guāng)滑。與化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋光過程分為兩步:

  (1)宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下(xià)降,Ra>1μm。

  (2)微光平整 陽極極化,表(biǎo)麵光亮度提高,Ra<1μm。

  4 超聲波拋光

  將工件放入磨料懸浮液中並一起置於(yú)超(chāo)聲波場中,依*超聲(shēng)波的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引(yǐn)起(qǐ)工件(jiàn)變形,但工(gōng)裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液(yè)腐蝕、電解(jiě)的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物(wù)脫離,表麵附近的(de)腐(fǔ)蝕(shí)或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體(tǐ)中的空化作用還(hái)能夠抑製腐蝕過程,利於表(biǎo)麵光亮化

  5 流(liú)體拋光

  流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體(tǐ)噴射加工(gōng)、流(liú)體動(dòng)力(lì)研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶(dài)磨粒的液體介質高速往複流過(guò)工件表麵。介質主要采用(yòng)在較低壓力下流過性好的特(tè)殊化合物(聚(jù)合物(wù)狀物質)並(bìng)摻上磨料製成(chéng),磨料可采用碳化矽粉末。

  6 磁研磨拋光

  磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加(jiā)工。這(zhè)種方法加工效率(lǜ)高,質量好,加工條件(jiàn)容易控製,工(gōng)作條件好。采用(yòng)合適的磨料,表麵粗(cū)糙(cāo)度(dù)可(kě)以達到Ra0.1μm。

  在塑料模(mó)具加工中所說(shuō)的(de)拋光與(yǔ)其他行業中所要求(qiú)的表麵拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應(yīng)該稱為鏡麵加工。它(tā)不僅對拋光本身有(yǒu)很(hěn)高的要求並且對表麵平(píng)整度、光滑度以及幾何(hé)精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光(guāng)亮(liàng)的表麵(miàn)即可。

  標簽(qiān):深(shēn)圳塑膠模具廠

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